西瓜栽培使用地膜，可先播种后覆膜，也可先覆膜后播种。
1）先播种后覆膜：在整好的畦面刨成大坑，坑中间播种，覆土2厘米并保留10厘米深的小坑，然后覆膜，使每一个小坑成为一个简易的“小温室”。这种覆膜方法是早春地温较低时，为了抢早上市，进行早熟栽培，也是干旱地区抗旱保苗时常使用的方法。优点是抢早播种、早发苗、早成熟、早上市。缺点是瓜苗易徒长，放风不及时会使瓜苗烤死，保苗率低。
2）先覆膜后播种：为了提高地温，提前把地膜覆好，待地温升到15℃以上时，用直径5厘米的铁筒在膜上打孔播种。播种时间在终霜（春天最后一次霜）结束前七天，覆土时不能用湿土否则会出现硬盖现象。此法覆膜简便易行，保苗率高，一般初次种瓜者容易成功。