温室黄瓜栽培密度通常在3000～4000株/亩。早熟品种黄瓜一亩地可种4000～4500棵，而中熟和晚熟黄瓜品种一亩密度在3000～3500株即可。通常可按等行距60～70厘米或大行距80厘米，小行距50厘米，于苗行处做高垄，垄高10～15厘米，垄上覆地膜。棚室的垄与沟均覆地膜进行膜下灌溉，于垄上按株距25厘米栽苗。种植黄瓜的密度一般情况下是每亩3300～3500株左右。
